溅射靶材和蒸发材料
沉积材料包括溅射靶材、蒸发材料和蒸发源。 溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子在真空中加速聚集形成高速离子束，撞击固体表面并进行动能交换，使 固体表面 离开固体并沉积在基材表面上。 被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原料，称为溅射靶。 真空蒸镀是将工件和待镀镀层材料放在真空室内，抽真空，然后加热蒸镀材料，使待镀层材料蒸发沉积在工件表面。 使用的涂层材料称为蒸发材料。美国ATT中国 专业生产高密度、超高纯度（99.9% 至 99.9999%）溅射靶材和其他沉积材料，适用于使用真空熔化/铸造和热等静压 (HIP) 技术的所有应用 .
